高纯臭氧发生器，臭氧浓度高于99.5%

1.超高纯臭氧制备

2.臭氧浓度高于99.5%

3重安全保障

液化池容积限制设计

安全阀设计

急停设计

产品特点

● 全金属密封臭氧液化池

● 无硅胶吸附剂

● 闭循环制冷机自动控温

● 提纯速度快,准备时间只需30分钟；提纯1小时，能产出约4标升高纯臭氧气体，可满足大部分用户十小时以上的生长需求

● 设计紧凑，尺寸 400*700*1200mm(高）

● 操作简便，即起即停

● 高纯臭氧应用领域：化学气相沉积（CVD），原子层沉积（ALD），氧化物生长，表面处理，粒子清洁，光刻胶去除，灰化等。

背景技术：

臭氧是一种功能多样、极具开发价值的气体，在科研、半导体制造、薄膜制备、水处理、空气净化、医疗卫生、食品加工等许多领域有着广泛应用，但由于臭氧气体容易分解成氧气，不能长时间贮存；而液态臭氧存在爆炸风险，不利于存储和运输，因此臭氧气体基本都是现用现制。

不同应用场景对于臭氧浓度的要求不同，某些场景对于臭氧浓度的要求较低，例如：宾馆、超市、学校、食品工厂、食品储仓储、生鲜食品配送中心和其他低浓度臭氧要求的工业环境的空气杀菌消毒和水处理、杀菌保鲜等方面，臭氧浓度维持在15％以下即可，因而可以采用化学法、电化学法、电晕放电法、紫外辐射法等多种方法制备，技术已经较为成熟也较为简单；某些场景对于臭氧浓度的要求较高，例如：氧化物薄膜制备(ombe、cvd和ald)、半导体制造领域和研究所高校实验室场景等，臭氧浓度越高越有益于排除杂质对于应用场景的影响，从而更好地实现环境变量的控制，由于高纯度臭氧具有爆炸的危险，因此高纯度的臭氧制备技术需要满足安全性和稳定性，同时也具有高效性和成本造价等方面的要求。

一般高纯度臭氧装置是介于臭氧和氧气沸点之间的温度环境，通过臭氧提纯，很终臭氧浓度能达到80～99％，但制备流程时间较长，且纯度仍有较大提高空间。

shunsukehosokawa和shingoichimura发表的reviewofscientificinstruments62,1614(1991)公开了一种液化型臭氧提纯方法，该方法利用氧气和臭氧饱和蒸汽压在70～95k温区相差三四个数量级的特点，将臭氧气体液化实现提纯，臭氧浓度可以达到70％以上，后经改进，臭氧浓度可高于99.5％。但该装置存在以下三点不足：第一个是该装置从室温状态到可提纯臭氧状态，需要约60分钟，臭氧提纯的准备时间很长；第二个是臭氧处理器，需加热至400℃来分解臭氧，有安全隐患，且需降温装置把加热的气体重新降至室温，结构复杂；第三个是进入液化池的过滤装置的精度仍有提高的空间。

综上所述，市场中缺乏一种适用于实验室环境下，能够快速实现超高纯臭氧制备的设备。