发布日期:2024-03-27 浏览次数:
特征:
H系列 在不使用氮添加剂的情况下产生行业领先的超高浓度臭氧气体,主要用于半导体和制造工艺。 P系列 仅使用高纯度氧气产生清洁臭氧气,主要用于半导体和制造工艺,不含氮添加剂。 C系列 产生适用于半导体制造工艺的清洁臭氧气体 N系列 使用普通氧气产生高浓度臭氧气体。主要应用包括半导体制造工艺、化学工艺、食品制造工艺和水处理。 |
U系列 制造适用于半导体制造工艺的清洁臭氧水。主要应用包括半导体制造工艺和精密机器零件清洗。 |
特征
基本规格
粘接成就
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