美国 beneq  TFS 500 ALD反应器（臭氧可选）

TFS 500 是薄膜镀膜应用中各种用途的理想选择。作为第一个 Beneq 反应器模型，它已被证明是用于深入 ALD 研究和稳健批处理的多功能工具。TFS 500 是多项目环境的理想工具。

TFS 500 可以处理多种类型的基板;晶圆、平面物体、颗粒和多孔散装材料，以及具有高纵横比特征的复杂 3D 物体。它可以进一步配备手动操作的负载锁，以提高晶圆加工能力。不同类型的反应室可以很容易地安装在真空室内，从而可以针对每个客户应用优化每个反应室。

TFS 500既满足工业可靠性的严格要求，又满足研发运营灵活性的需求。工艺组件是现成的物品，可确保备件的可用性。所有前驱体容器都可以在短时间内轻松更换。前驱体准备包括气体、液体和固体材料。为了在前驱体选择方面具有充分的灵活性，我们还增加了 500 °C 热源选项。

自2014年以来，Beneq一直与MBRAUN合作，通过提供交钥匙研发解决方案来满足不断增长的OLED市场需求。此次合作的目标是将 Beneq 突破性薄膜封装技术的公认专业知识与 MBRAUN 的手套箱、定制外壳和独立单元相结合。

参数

ALD配套臭氧设备

臭氧发生器：Atals H30  

臭氧分解器：F1000

臭氧在线检测仪：3S-J5000